研究成果

“Topological descriptor of thermal conductivity in amorphous Si” がJournal of Chemical Physics に掲載されました。大林教授 (計画班A03-2) らの研究グループが、アモルファス構造のトポロジーから熱伝導率を予測する技術を開発しました。

[論文リンク]　［プレスリンク：JST, 分子科学研究所］