論文"Controlling thermal conductivity of amorphous SiOx films through structural engineering utilizing the single crystal substrate surfaces"がACS Nano Letters誌に掲載されました。A01-2の小野教授、A02-1田尻博士らが連携して、絶縁膜の熱の流れを自在に制御できるメカニズムを発見しました。膜構造や振動特性が基板によって変化し、熱の伝わり方が劇的に変化することを実証しました。次世代の半導体デバイスや電子機器の放熱・省エネ技術に革新をもたらすと期待されます。
論文：https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.5c00646
プレスリリース：東北大
